Contact

Prof. Dr. Andreas Kolitsch
HZDR Innovation GmbH
a.kolitschAthzdr.de
Phone: +49 351 260 - 3348
Fax: 13348, 2703

Nutzerangebot Ionenstrahlzentrum

Das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung besitzt eine langjährige Expertise bei der Anwendung von Ionenstrahlen für die Modifikation oder die Analyse von Festkörperoberflächen insbesondere bei Halbleitern und Metallen bzw. metallischen Legierungen.

Im Rahmen der Kernkompetenz des Institutes bei der Anwendung von Ionenstrahlen stehen umfangreiche analytische und präparative Möglichkeiten zur Verfügung, die wir externen Messgästen gern zur Verfügung stellen.

Zentrale anwendungsrelevante Kompetenzfelder:

  • Simulation der Wechselwirkungsprozesse von Ionen in Festkörpern
  • Erzeugung von Verschleißschutzschichten für metallischen Werkstoffen
  • "Advanced" Ionenstrahltechnologien (Hochenergie, Feinfokus) für die moderne Mikroelektronik
  • Anwendung der Hochenergie-Ionenimplantation für Bauelemente der Leistungselektronik
  • Dotierung von Halbleitern, insbesondere auch Wide-Bandgap-Halbleiter
  • Analytik  von Festkörperoberflächen mit hochenergetischen Ionenstrahlen
  • Entwicklung und Fertigung von Sensoren und Detektoren zum Nachweis von Teilchenstrahlung

Angebote:

  • Beratung und Problemevaluierung bei der Anwendung von Ionenstrahlen
  • Verfahrensentwicklung zur Anwendung von Ionentechniken
  • Bemusterung mit Materialproben, Werkzeugen und Baugruppen
  • Durchführung von Serviceleistungen auf den Gebieten Ionenimplantation und Analytik
  • Ionenimplantation in Halbleitersubstrate  für mikrosystemtechnische- und elektronische Anwendungen
  • Präparation / Fertigung von Halbleitern und Halbleiter-Strahlungssensoren unter Reinraumbedingungen (Gesamtfläche: 300 m2;  RR-Klasse: 100)

Beispiele:

  • Verschleißverminderung bei Edelstahl durch Plasma-Immersions-Implantation
  • Hochenergie-Ionenimplantation für Bauelemente der Leistungselektronik
  • Mikro- und Nanostrukturierung mit Ionenfeinstrahlen
  • Zerstörungsfreie quantitative Wasserstoffanalytik
  • Zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse an Kunstwerken
  • Dotierung von Wide-Bandgap-Halbleitern (SiC, Diamant)
  • Ionenmikrosonde für die Analytik mit hoher Ortsauflösung
  • Analytik mit Synchrotronstrahlung an der Rossendorfer Beamline in Grenoble (ROBL)
     

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