Die elektrostatischen Beschleuniger des HZDR

 


2-MV-Van-de-Graaff-Beschleuniger:

 
Hersteller: Transformatoren- und Röntgenwerk Dresden
Inbetriebnahme: 1963
Beschleunigungsspannung: 0,3 - 1,7 MV
Strahlstrom: 0,01 -1,0 µA
Ionenarten: 1H, 2H, 4He
Ionenquelle: Hochfrequenz-Ionenquelle
Experimentiereinrichtungen und Anwendungen:
  • RBS-Streukammer mit Channeling-Einrichtung,
  • UHV-Kammer für Oberflächenuntersuchungen.
 
 

5-MV-Tandembeschleuniger EGP-10-1:

 
Hersteller: Efremov-Institut NIIEFA Leningrad (St. Petersburg)/Rußland
Inbetriebnahme: 1972
Beschleunigungsspannung: 0,8 - 4,5 MV
Strahlstrom: 0,001 -10 µA
Ionenarten: nahezu alle Ionenarten, vorrangig 1H,2H, He, Li, C, 14N, 15N, O, Cl, Br
Ionenquellen: Cs-Sputterquelle MISS-483, off-axis Duoplasmatron EKTON-4
Experimentiereinrichtungen und Anwendungen:
  • 3 ERDA-Einrichtungen kombiniert mit Implantations- und Plasmaanlagen,
  • externer Protonenstrahl für Kunstgutuntersuchungen,
  • Wasserstoffnachweis mit NRA [1H(15N,a g )12C],
  • Implantationskanal,
  • Energieverlustmessungen,
  • Streukammer für Detektorentwicklung (TU Dresden).
 
 

3-MV-Tandetron (Hochstromversion)

 
Hersteller: High Voltage Engineering Europa Amersfoort/ Niederlande
Inbetriebnahme: 1993
Beschleunigungsspannung: 0,1 - 3,3 MV
Strahlstrom: 0,001 - 200 µA
Ionenarten: nahezu alle Ionenarten einschließlich Heliumionen
Ionenquellen: Hochfrequenz-Ionenquelle mit Li-Ladungsaustauschkanal, Cs-Sputterquelle IONEX 860-C.

Experimentiereinrichtungen und Anwendungen:

  • RBS-Kammer,
  • Implantationskanal mit Wafer-Karussel (max. 4 inch Durchmesser ),
  • Implantationskammer hoher Reinheit (max. 5 inch Durchmesser ),
  • Kernmikrosonde (ca. 1µm Strahldurchmesser),
  • AMS-Einrichtung für Tiefenprofilierung von Tritium.