Fokussierter Ionenstrahl . . .

 

FIB1

 

 

 

New IMSA_OrsayPhysics FIB

 

HZDR logo, written with FIB into an eye of a fly

 

EURO - Logo, written with Ga - FIB into Si

 

Fein fokussierte Ionenstrahlen (Focused ion beam = FIB) sind ein sehr nützliches Werkzeug in der Mikro- und Nanotechnologie und Analytik. Charakteristische Eigenschaften sind der Submikrometer-Strahldurchmesser, der Energiebereich zwischen 200 keV und einigen eV (low energy FIB), eine hohe Stromdichte sowie eine große Vielfalt an verfügbaren Ionen. In FIB Systemen werden Flüssigmetallionenquellen und in einigen Fällen auch Gas-Feldionisationsquellen eingesetzt. Die meisten FIB-Anlagen sind Computer gesteuert und gestatten eine Struktur beliebiger Form bis in den Submikrometerbereich hinein zu bearbeiten.
Die wichtigsten Anwendungsgebiete derartiger Anlagen liegen derzeit in der Nanotechnologie, darin in der Raster-Ionenstrahl- Mikroskopie, lateral hochauflösende Sekundärionenmassenspektrometrie (SIMS), maskenlose Ionen-Implantation zur Dotierung und Materialmodifizierung, Ionenstrahlzerstäuben zur Herstellung von 3D Mikrostrukturen, Inspektion und Probenpräparation für REM und TEM Untersuchungen, selektive Ionenstrahl-gestützte Abscheidung, Ionenstrahllithographie.
  • Experimentelle Basis
    • Ionenfeinstrahl - System IMSA - Orsay Physics
    • Präparations- und Analysetechnik für Legierungs-Flüssigmetall-Ionenquellen
  • Forschungsgebiete
    • Ionenstrahlsynthese
    • Defekterzeugung und dynamische Ausheilung bei extremen Ionenstromdichten
    • Legierungs - Flüssigmetall-Ionenquellen
    • Plasmonische Strukturen
    • Mikrostrukturierung durch lokales Ionenzerstäuben
    • FIB-Ga-Implantation und anisotropes Ätzen zu Herstellung von 3D Strukturen
    • Ionenakustische Mikroskopie
  • Mitarbeiter
    • Dr. Lothar Bischoff
    • Dipl.-Phys. Shavkat Akhmadaliev
    • Ing. Gerolf Hofmann
ehemalige Mitarbeiter