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Porträt Dr. Bischoff, Lothar; FWIZ-N

Dr. Lothar Bischoff
Ion Induced Nanostructures
l.bischoffAthzdr.de
Phone: +49 351 260 - 2866, 2963
Fax: +49 351 260 - 12866

Lokales FIB-Sputtern zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen

Durch FIB-Bestrahlung (Sputtern) mit Ga+ oder anderen schweren Ionen, wie Ge+, Au+, Nd+..., lassen sich mit dem gescannten Ionenstrahl geometrisch definierte Oberflächenstrukturen herstellen. So wurden z.B. Nanolöcher im Apex von AFM-Spitzen hergestellt, die als Blenden in Experimenten zur Einzelionen-Implantation eingesetzt werden sollen. Weiterhin wurde eine Vielzahl magnetischer Dünnschichtsysteme mit dem FIB modifiziert bzw. strukturiert, um magnetische Eigenschaften der Schichten im sub-µm- und nm-Bereich studieren zu können. 

Herstellung von AFM Cantilevern mit einem Nano-Loch an der Spitze
Herstellung von AFM Cantilevern mit einem Nano-Loch an der Spitze
Unterschiedliche Anordnungen von FIB-gesputterten Nanolöchern in lithografisch vorstrukturierten dünnen magnetischen Schichten
Unterschiedliche Anordnungen von FIB-gesputterten Nanolöchern in lithografisch vorstrukturierten dünnen magnetischen Schichten

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