Contact

Dr. Johannes von Borany
Head of Ion Beam Center
j.v.boranyAthzdr.de
Phone: +49 351 260 - 3378
Fax: +49 351 260 - 13378

orangener PfeilInternational Office

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The International Office (IO) advises and supports visiting scientists and researchers, PhD students and postdocs from abroad as well as international users of our research facilities - together with their families - in organizing, preparing, and implementing their stay here in Dresden.

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Nutzerangebot Ionenstrahlzentrum

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Das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung besitzt eine langjährige Expertise bei der Anwendung von Ionenstrahlen für die Modifikation oder die Analyse von Festkörperoberflächen insbesondere bei Halbleitern und Metallen bzw. metallischen Legierungen.

Als überregionales Zentrum für Ionenstrahlanwendungen, vermittelt das Institut seine wissenschaftlich-technischen Kenntnisse an Partner in Forschung und Industrie und stellt seine Anlagen zur Ionenimplantation, HE-Ionenimplantation, zur ionen- und plasmagestützten Schichtabscheidung und zur Ionenstrahlanalytik, die Ionenenergien im Bereich von wenigen 10 eV bis zu einigen 10 MeV liefern, auch externen Messgästen gern zur Verfügung.


Zentrale anwendungsrelevante Kompetenzfelder:

Mitarbeiter im Ionenstrahlzentrum
  • Simulation der Wechselwirkungsprozesse von Ionen in Festkörpern
  • Erzeugung von Verschleißschutzschichten für metallischen Werkstoffen
  • "Advanced" Ionenstrahltechnologien (Hochenergie, Feinfokus) für die moderne Mikroelektronik
  • Anwendung der Hochenergie-Ionenimplantation für Bauelemente der Leistungselektronik
  • Dotierung von Halbleitern, insbesondere auch Wide-Bandgap-Halbleiter
  • Analytik von Festkörperoberflächen mit hochenergetischen Ionenstrahlen
  • Entwicklung und Fertigung von Sensoren und Detektoren zum Nachweis von Teilchenstrahlung

Angebote:

Plasmabasierte Ionenimplantation
  • Beratung und Problemevaluierung bei der Anwendung von Ionenstrahlen
  • Verfahrensentwicklung zur Anwendung von Ionentechniken
  • Bemusterung mit Materialproben, Werkzeugen und Baugruppen
  • Durchführung von Serviceleistungen auf den Gebieten Ionenimplantation und Analytik
  • Ionenimplantation in Halbleitersubstrate für mikrosystemtechnische- und elektronische Anwendungen
  • Präparation / Fertigung von Halbleitern und Halbleiter-Strahlungssensoren unter Reinraumbedingungen (Gesamtfläche: 300 m2; RR-Klasse: 100)

Beispiele:

Zerstörungsfreie Untersuchung von Kunstwerken mittels Ionenstrahlanalyse: Cranach
  • Verschleißverminderung bei Edelstahl durch Plasma-Immersions-Implantation
  • Hochenergie-Ionenimplantation für Bauelemente der Leistungselektronik
  • Mikro- und Nanostrukturierung mit Ionenfeinstrahlen
  • Zerstörungsfreie quantitative Wasserstoffanalytik
  • Zerstörungsfreie Ionenstrahlanalyse an Kunstwerken
  • Dotierung von Wide-Bandgap-Halbleitern (SiC, Diamant)
  • Ionenmikrosonde für die Analytik mit hoher Ortsauflösung
  • Analytik mit Synchrotronstrahlung an der Rossendorfer Beamline in Grenoble (ROBL)

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Dr. Johannes von Borany
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