Contact

Dr. Roman Böttger
Head Ion Implantation
Ion Technology
r.boettger@hzdr.de
Phone: +49 351 260 - 2873

Anlage PBII-3

PBII-3

 

   Anwendung

   Implantation aus Reinstgasen z.B. für die Biomedizin,

   Erzeugung von nanoporösen Oberflächen in Edelstahl,

   Passivierung von NiTi

   Kammer

   Edelstahl, UHV, Kühlung und Heizung möglich

   Plasmaerzeugung

   HF Antenne

   Substratgröße

   max. 70 mm x 70 mm x 50 mm

   Substrathalter

   feststehend, ungekühlt, keine aktive Heizung

   Hochspannung

   0.1 - 40 kV

   Standardgase

   Ar, N2, O2, H2

   Optionale Gase

   auf Nachfrage


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