Contact

Dr. Roman Böttger
Head Ion Implantation
Ion Technology
r.boettger@hzdr.de
Phone: +49 351 260 - 2873

PBII-7

PBII 7_1 TiAl Komponenten

   Anwendungen

   Implantation von Halogenen

   Hochtemperatur-Oxidationsschutz von TiAl-Legierungeng

   Kammer

   Edelstahl, Kühlung möglich, Al Auskleidung

   Plasmaerzeugung

   HF Antenne

   Substratgröße

   max. Ø 150 mm x 150 mm

   Substrathalter

   feststehend, ungekühlt, keine aktive Heizung

   Hochspannung

   0.1 - 40 kV

   Standardgase

   Ar, N2, O2, H2, CH2F2

   Weitere Spezies

   keine


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