Contact

Dr. Roman Böttger
Head Ion Implantation
Ion Technology
r.boettger@hzdr.de
Phone: +49 351 260 - 2873

Anlage PBII-9

PBII 9-4 PBII 9-3

 

Hersteller

Dresden Thin Film Technology GmbH

Anwendung

Implantation, Dotierung von Halbleitern

Kammer

Aluminium

Plasmaerzeugung

HF Antennensystem

Substratgröße

max. Ø 300 mm x 10 mm

Substrathalter

rotierbar, höhenverstellbar 250 mm, wassergekühl

Hochspannung

0.1 - 20 kV

Standardgase

Ar, N2, H2, PH3, NF3

weitere Spezies

keine


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