Contact

Prof. Dr. Andreas Kolitsch
HZDR Innovation GmbH
a.kolitschAthzdr.de
Phone: +49 351 260 - 3348
Fax: 13348, 2703

40kV Ionenimplanter

  • Hersteller:
DANFYSIK 1050
  • Ionenquelle:
CHORDIS, Gas- und Feststoffbetrieb
  • Energiebereich (+):
500 eV bis 40 keV (< 3keV im Abbremsmodus)
  • Scanprinzip:
doppelt elektrostatisch

Kammer

LE-Implanter 1

  • Substrate:
Wafer oder kleinere Proben
  • Substratgröße:
1 cm2 bis Ø 150 mm Wafer
  • Implantationsfläche:
maximal 150 mm x 150 mm
  • Implantationswinkel (tilt):
0° und 7°, andere Winkel auf Anfrage
  • Substrattemperatur:
ungekühlt, keine aktive Heizung
  • Dosisbereich:
1e12 bis 1e17 cm-2 (1e18 cm-2 auf Anfrage)

Contact

Prof. Dr. Andreas Kolitsch
HZDR Innovation GmbH
a.kolitschAthzdr.de
Phone: +49 351 260 - 3348
Fax: 13348, 2703