Anlagentechnik zur Plasmabasierten Ionenimplantation (PBII)

Es stehen derzeit 6 Anlagen für die Bearbeitung mittels PBII zur Verfügung. Es können Plasmen von gasförmigen, flüssigen und festen Einsatzsubstanzen erzeugt werden.

Anlage Plasmaerzeugung Kammer Substratgröße Hochspannung Standardgase weitere Spezies Anwendung

PBII-3

HF Antenne Edelstahl, UHV  max. 70 mm x 70 mm x 50 mm 0.1 - 40 kV Ar, N2, O2, H2 auf Nachfrage Implantation
PBII-5 HF Antenne Edelstahl max. Ø 200 mm x 200 mm 0.1 - 40 kV Ar, N2, O2, H2 Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, … Implantation und Beschichtung
PBII-6 Magnetron Edelstahl max. Ø 75 mm x 20 mm 0.1 - 12 kV Ar, N2, O2, H2 auf Nachfrage Implantation
PBII-7 HF Antenne Edelstahl, Al Auskleidung max. Ø 150 mm x 150 mm 0.1 - 40 kV Ar, N2, CH2F2, SiF4 keine Implantation von F oder Cl
PBII-8 HF Antenne Edelstahl max. 200 mm x 200 mm x 200 mm 0.1 - 20 kV Ar, N2, O2, H2 auf Nachfrage Implantation und Beschichtung
PBII-9 HF Antenne Aluminium max. Ø 300 mm x 10 mm 0.1 - 20 kV Ar, N2, H2, PH3, NF3 keine Dotierung von Halbleitern

Contact

Dr. Roman Böttger
Head Ion Implantation
Ion Technology
r.boettger@hzdr.de
Phone: +49 351 260 - 2873