Anlagentechnik zur Plasmabasierten Ionenimplantation (PBII)
Es stehen derzeit 6 Anlagen für die Bearbeitung mittels PBII zur Verfügung. Es können Plasmen von gasförmigen, flüssigen und festen Einsatzsubstanzen erzeugt werden.
| Anlage | Plasmaerzeugung | Kammer | Substratgröße | Hochspannung | Standardgase | weitere Spezies | Anwendung |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| HF Antenne | Edelstahl, UHV | max. 70 mm x 70 mm x 50 mm | 0.1 - 40 kV | Ar, N2, O2, H2 | auf Nachfrage | Implantation | |
| PBII-5 | HF Antenne | Edelstahl | max. Ø 200 mm x 200 mm | 0.1 - 40 kV | Ar, N2, O2, H2 | Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, … | Implantation und Beschichtung |
| PBII-6 | Magnetron | Edelstahl | max. Ø 75 mm x 20 mm | 0.1 - 12 kV | Ar, N2, O2, H2 | auf Nachfrage | Implantation |
| PBII-7 | HF Antenne | Edelstahl, Al Auskleidung | max. Ø 150 mm x 150 mm | 0.1 - 40 kV | Ar, N2, CH2F2, SiF4 | keine | Implantation von F oder Cl |
| PBII-8 | HF Antenne | Edelstahl | max. 200 mm x 200 mm x 200 mm | 0.1 - 20 kV | Ar, N2, O2, H2 | auf Nachfrage | Implantation und Beschichtung |
| PBII-9 | HF Antenne | Aluminium | max. Ø 300 mm x 10 mm | 0.1 - 20 kV | Ar, N2, H2, PH3, NF3 | keine | Dotierung von Halbleitern |
