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Neue optische Schichten auf der Basis amorpher Nanostrukturen (Nanomorph)

Unter Anwendung plasma- und ionengestützter Abscheideverfahren können dichtgepackte amorphe optische Schichten mit zahlreichen positiven Eigenschaften erzeugt werden. Verwendung finden sie in optischen Komponenten wie schmal- und breitbandigen Interferenzsystemen im UV, VIS und NIR, welche in Deutschland typische Felder für Produkte kleiner und mittlerer Unternehmen sind. Die Forschungsergebnisse bilden die Grundlage für effiziente optische Komponenten , z.B. für Produktentwicklungen wie integrierbare optische Wellenleitersysteme, Geräte für die medizinische Diagnostik oder für die Laserstrahlenerzeugung und -anwendung.

Problematisch sind bislang hohe Druckspannungen, die zur Substratverbiegung führen können und eine Anwendung in temperaturempfindlichen Substraten ausschließt. Dies soll mittels der Ermittlung geeigneter energetischer Bedingungen beim reaktiven gepulsten Magnetronsputtern sowie APS-gestütztem Elektronenstrahlverdampfen unter Beibehaltung der optischen Substrateigenschaften gelöst werden.

Fördergeber: BMWi / AiF
Förderkennzeichen: 15042 BR
Laufzeit: 01.12.2006 - 30.11.2008
Umfang: 92.550 €
Ansprechpartner: Prof. Dr. Andreas Kolitsch