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Grenzflächenoptimierung

Kosteneffiziente Dünnschichtphotovoltaik beruht in der Regel auf der Verwendung von transparenten leitfähigen Oxiden. Bisherige Forschungsarbeiten konzentrieren sich auf eine Maximierung der Lichtdurchlässigkeit in Kombination mit einem möglichst geringem elektrischen Widerstand.

Vernachlässigt wurde bislang der Einfluss der Gestaltung der Grenzflächen. Ziel des Projektes ist die Erreichung einer signifikanten Effizienzsteigerung in der Dünnschichtphotovoltaik mittels definierter Rauhigkeit  des transparent leitfähigen Oxids sowie einer maßgeschneiderten Austrittsarbeit an der Grenzfläche. Weiterhin steht der Ersatz teurer Fertigungsverfahren und Materialien durch preiswerte Materialkombinationen sowie durch Einsatz von gepulsten reaktiven Magnetronzerstäubern im Vordergrund.

Fördergeber: BMWi / AiF
Förderkennzeichen: 16595 BG / 1
Laufzeit: 01.05.2010 - 31.10.2012
Umfang: 291.900 €
Ansprechpartner: Prof. Dr. Andreas Kolitsch