Phasenseparation in perkolierte Si-Nanostrukturen im SiO2
Abb. 1. TEM-Hellfeldabbildung einer Querschnittsprobe eines auf einkristallinem Silizium abgeschiedenen Si-SiOx-Nanokomposits.
Abb. 2. Hochaufgelöste TEM-Abbildung der Grenzfläche zwischen Si-SiOx-Nanokomposit und Siliziumsubstrat mit elastisch gestreuten Elektronen.
Abb. 3. Überlagerung von mittels EFTEM aufgenommener Si- (grün) und SiOx-Verteilungen (rot).
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