Publications Repository - Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf

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The Helmholtz Innovation Lab for ultra-short time annealing
Rebohle, L.ORC; Begeza, V.; Garcia Munoz, A.; Schumann, T.; Neubert, M.; Xie, Y.; Prucnal, S.; Grenzer, J.; Hübner, R.; Zhou, S.ORC; Skorupa, W.
Der Vortrag stellt das Helmholtz Innovation Lab für Ultrakurzzeitausheilung vor. Im zweiten Teil werden experimentelle Ergebnisse bei der Kristallisation von dünnen amorphen Halbleiterschichten (Si, Ge, NiGe) mittels magnetron sputtering und Blitzlampenausheilung diskutiert.
Keywords: Helmholtz Innovation Lab, flash lamp annealung, ultra-short time annealing, magnetron sputtering, nickel germanide
  • Lecture (Conference)
    43. Nutzertreffen Heißprozesse und RTP, 23.10.2019, Stuttgart, Deutschland

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-29890
Publ.-Id: 29890