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Title
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Nano-Löcher: auf der Rasterkraftmikroskop-Aufnahme sieht man durch hochgeladene Ionen hervorgerufene Defekte in der Materialoberfläche. Jedes Nano-Loch entspricht dem Beschuss mit genau einem Ion.
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Description
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Scanning force microscopy image of CaF2 single crystal irradiated through a a rectangular copper grid and subsequently chemically etched using HNO3. Every etch pit is corresponding to one ion impact.
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Copyright
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Dr. El-Said
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Picture Id
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37540
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Date
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19.09.2012
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