| |
Ein spezielles Beispiel für die Implantation ist das Dotieren: Das Dotieren wird genutzt um die Leitfähigkeit eines Halbleitermaterials zu verbessern. Halbleiter sind Elemente aus der vierten Hauptgruppe des Periodensystems der Elemente (z.B. Silizium). Je nach dem ob man ein positiv- oder ein negativ leitendes Halbleitermaterial haben will, muss man verschieden vorgehen. Will man ein positiv leitendes Halbleitermaterial verstellen, muss man diesem, angenommen Silizium, ein dreiwertiges Element hinzufügen. Im unten gezeigten Fall ist das Gallium. Dadurch entsteht ein freies positives Loch. Ein anderes Elektron besetzt dieses Loch anschließend und ein weiteres besetzt das dadurch neu entstandene Loch usw. Das Loch wandert also entgegengesetzt zu den Elektronen, es fließt ein Strom. Diesen Vorgang nennt man p-Dotierung.
|
 |
|
|
Wenn man allerdings ein negativ leitendes Halbleitermaterial benötigt, fügt man dem Halbleiter einfach ein fünfwertiges Element hinzu. In dem unten gezeigten Beispiel ist es das Element Arsen. Dadurch ist ein zusätzliches Elektron vorhanden. Dieses ist nur schwach ortsfest und kann durch eine Temperaturerhöhung oder angelegte Spannung zum Wandern gebracht werden. Es fließt ein Strom. |
|
|
