Lokales FIB-Sputtern zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen

Durch FIB-Bestrahlung (Sputtern) mit Ga⁺ oder anderen schweren Ionen, wie Ge⁺, Au⁺, Nd⁺..., lassen sich mit dem gescannten Ionenstrahl geometrisch definierte Oberflächenstrukturen herstellen. So wurden z.B. Nanolöcher im Apex von AFM-Spitzen hergestellt, die als Blenden in Experimenten zur Einzelionen-Implantation eingesetzt werden sollen. Weiterhin wurde eine Vielzahl magnetischer Dünnschichtsysteme mit dem FIB modifiziert bzw. strukturiert, um magnetische Eigenschaften der Schichten im sub-µm- und nm-Bereich studieren zu können. 

Herstellung von AFM Cantilevern mit einem Nano-Loch an der Spitze

Unterschiedliche Anordnungen von FIB-gesputterten Nanolöchern in lithografisch vorstrukturierten dünnen magnetischen Schichten