PBII-5
Anwendungen |
Implantation aus Gas- und Metallplasmen, Kombination mit Magnetronbeschichtungen möglich Härtung von Edelstahl, Ionennitrierung von Aluminium und Aluminiumlegierungen, TiN Niedertemperatur Abscheidung |
Kammer |
Edelstahl, Kühlung möglich |
Plasmaerzeugung |
HF Antenne, Magnetrons |
Substratgröße |
max. Ø 200 mm x 200 mm |
Substrathalter |
feststehend, ungekühlt, keine aktive Heizung |
Hochspannung |
0.1 - 40 kV |
Standardgase |
Ar, N2, O2, H2 |
Weitere Spezies |
Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, … |