PBII-5

Anwendungen

Implantation aus Gas- und  Metallplasmen, Kombination mit Magnetronbeschichtungen möglich

Härtung von Edelstahl,

Ionennitrierung von Aluminium und Aluminiumlegierungen,

TiN Niedertemperatur Abscheidung

Kammer

Edelstahl, Kühlung möglich

Plasmaerzeugung

HF Antenne, Magnetrons

Substratgröße

max. Ø 200 mm x 200 mm

Substrathalter

feststehend, ungekühlt, keine aktive Heizung

Hochspannung

0.1 - 40 kV

Standardgase

Ar, N₂, O₂, H₂

Weitere Spezies

Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, …