PBII-5
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Anwendungen |
Implantation aus Gas- und Metallplasmen, Kombination mit Magnetronbeschichtungen möglich Härtung von Edelstahl, Ionennitrierung von Aluminium und Aluminiumlegierungen, TiN Niedertemperatur Abscheidung |
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Kammer |
Edelstahl, Kühlung möglich |
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Plasmaerzeugung |
HF Antenne, Magnetrons |
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Substratgröße |
max. Ø 200 mm x 200 mm |
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Substrathalter |
feststehend, ungekühlt, keine aktive Heizung |
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Hochspannung |
0.1 - 40 kV |
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Standardgase |
Ar, N2, O2, H2 |
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Weitere Spezies |
Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, … |
