PBII-8
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Anwendungen |
Implantation und Beschichtung |
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Kammer |
Edelstahl |
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Plasmaerzeugung |
HF Antenne, Magnetrons |
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Substratgröße |
max. 200 mm x 200 mm x 200 mm |
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Substrathalter |
rotierbar, höhenverstellbar 250 mm, wassergekühlt, keine aktive Heizung |
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Hochspannung |
0.1 - 20 kV |
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Standardgase |
Ar, N2, O2, H2 |
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Weitere Spezies |
Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, sowie auf Nachfrage |
| Beschichtungsquellen | bis zu 4 Magnetrons variabler geometrischer Anordnung für Beschichtung, Metallimplantation oder Kombination aus beidem |
