PBII-8
Anwendungen |
Implantation und Beschichtung |
Kammer |
Edelstahl |
Plasmaerzeugung |
HF Antenne, Magnetrons |
Substratgröße |
max. 200 mm x 200 mm x 200 mm |
Substrathalter |
rotierbar, höhenverstellbar 250 mm, wassergekühlt, keine aktive Heizung |
Hochspannung |
0.1 - 20 kV |
Standardgase |
Ar, N2, O2, H2 |
Weitere Spezies |
Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, sowie auf Nachfrage |
Beschichtungsquellen | bis zu 4 Magnetrons variabler geometrischer Anordnung für Beschichtung, Metallimplantation oder Kombination aus beidem |