Anwendungen

   Implantation und Beschichtung

   Kammer

   Edelstahl

   Plasmaerzeugung

   HF Antenne, Magnetrons

   Substratgröße

   max. 200 mm x 200 mm x 200 mm

   Substrathalter

   rotierbar, höhenverstellbar 250 mm, wassergekühlt, keine aktive Heizung

   Hochspannung

   0.1 - 20 kV

   Standardgase

   Ar, N₂, O₂, H₂

   Weitere Spezies

   Cr, Cu, Ni, Ti, Ta, Ag, C, sowie auf Nachfrage