Anlage PBII-9
Hersteller |
Dresden Thin Film Technology GmbH |
Anwendung |
Implantation, Dotierung von Halbleitern |
Kammer |
Aluminium |
Plasmaerzeugung |
HF Antennensystem |
Substratgröße |
max. Ø 300 mm x 10 mm |
Substrathalter |
rotierbar, höhenverstellbar 250 mm, wassergekühl |
Hochspannung |
0.1 - 20 kV |
Standardgase |
Ar, N2, H2, PH3, NF3 |
weitere Spezies |
keine |