Kontakt

Dr. Kay Potzger

Projekt­gruppenleiter, Betriebsrat
Magnetismus
k.potzgerAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 3244

Dr. Kilian Lenz

Gruppenleiter
Magnetismus
k.lenzAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 2435
Fax: +49 351 260 12435

Dr. Helmut Schultheiß

Gruppenleiter
Spin: Wechselwirkung und Kontrolle
Spin Wechselwirkung und Kontrolle
h.schultheissAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 3243

Experimentelle Ausrüstung

Schichtabschneidung

Magnetormetrie

Magnetometrie

1. Ferromagnetische Resonanz - FMR
2. Temperaturvariable ferromagnetische Resonanz - Cryo-FMR
3. Brillouin-Lichtstreumikroskop 1+2 - BLS
4. Magneto-Optical Kerr Effect - MOKE
5. Kerr-Mikroskop
6. Spitzenmessplatz für Nanostrukturen
7. Frequenzaufgelöster MOKE - FR-MOKE
8. Vibrationsmagnetometer - VSM
9. Rasterkraftmikroskop - AFM/MFM
10. Rasterkraftmikroskop - AFM


Bild Beschreibung
FMR

1. Ferromagnetische Resonanz - FMR

  • Eigenentwicklung

  • Agilent E8364B Vektornetzwerkanalysator:

    Frequenzbereich 0.05 - 50 GHz

  • Bruker Elektromagnet: max. ±2.2 T

  • automatische polare und azimutale Rotation der Probe

  • Helmholtzspulen: max 0.1 T

Verantwortlich: K. Lenz

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CryoFMR

2. Temperaturvariable Ferromagnetische Resonanz

  • Attocube Attodry 1000 closed cycle Kryostat
  • ±5 T split-coil Magnet
  • Temperature: 4 - 300 K
  • Agilent N5225A Vector Network Analyzer:
  • Frequenzbereich 0.05 - 50 GHz
  • full polar and azimuthal sample rotation

Verantwortlich: K. Lenz

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Foto: Mikrofocus BLS Setup ©Copyright: Dr. Katrin Schultheiß

3. Brillouin-Lichtstreumikroskop 1+2

  • Eigenentwicklung
  • BLS1: Phasen-und Zeitauflösung
    BLS2: nur Zeitauflösung
  • Frequenzanalyse mittels Tandem Interferometer TFP-2 HC von JRS Scientific Instruments
  • Probenpositionierung mittels XM Ultra-Precision Linear Motor Stages von Newport
  • 50x und 100x Objektive
  • Magnetfeld bis max. 0.9 T
  • Zeitauflösung: bis 30ps mittels TimeTagger 20 von Swabian Instruments
  • GSG Picoprobes für Mikrowelleneinkopplung
  • RF Anregung bsi 40 GHz, 30 dBm max.
  • DC Anregung mittels SMU
  • AWG + Pulse Pattern Generator

Verantwortlich: H. Schultheiss

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Instrumentation MOKE

4. Magneto-Optical Kerr Effect - MOKE

  • Eigenentwicklung
  • Longitudinaler und transversaler Kerr-Effekt
  • Feld (in-plane): max. 400 Oe (Helmholtzspulen)
  • x, y, f Rasterung
  • Temperaturbereich: RT – 600 K

Verantwortlich: H. Schultheiß

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Kerr-Mikroskop

5. Kerr-Mikroskop

  • Hersteller: Evico-Magnetics
  • Mikroskop: Zeiss Axio Imager.D1m
  • Beleuchtung: 2x high-power LED (rot/blau)
  • Bipol/Quadrupolmagnet
  • Zweifarbsystem zur quantitativen Kerranalyse
  • integrierte AMR-Messung

Verantwortlich: H. Schultheiß

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PM5

6. Spitzenmessplatz für Nanostrukturen

  • Süss MicroTech PM5 Wafer Prober
  • Süss Z-Probes: GSG 0-50 GHz, 150µm Pitch
  • Evico Magnetics Elektromagnet: Bmax=
  • Optem CCD-Mikroskop
  • Agilent MXA Spektrumanalysator
  • Tektronix DPO72004 Realtime Oszilloskop (20 GHz)
  • Picosecond PulseLab Pulser

Verantwortlich: K. Lenz

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FR-MOKE Setup für optisch detektierte FMR

7. Frequenzaufgelöster MOKE - FR-MOKE

  • optisch detektierte FMR (5 µm Ortsauflösung)
  • Magnetfeld bis zu ca. ±1.4 T
  • Kepco Netzgerät
  • Frequenzbereich bis zu 35 GHz

Verantwortlich: K. Lenz

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Foto: Vibrationsmagnetometer ©Copyright: Dr. Kay Potzger

8. Vibrationsmagnetometer - VSM

  • agnetfeld bis zu ca. ±1.8 T
  • Empfindlichkiet: 5x10-6 emu (0.8x10-6 rms noise)
  • Winkelbereich 360°
  • Vektor Coil Option
  • Raumtemperatur

Verantwortlich: R. Salikhov

AMF/MFM

9. Raster- und Magnetkraftmikroskop (AFM/MFM)

  • Veeco/DI Multimode Nanoscope 4
  • sample size: 10 x 10 mm²
  • scan area max. 100x100 µm²
  • scan area 15x15 µm²
  • magnetic field 0 - 40 mT
  • resolution:
    • AFM ~10 nm
    • MFM ~30 nm
  • Scanning Spreading Resistance Microscopy (SSRM) option

Responsible: K. Potzger

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Foto: Bruker Icon Dimension AFM ©Copyright: Dr. Sven Stienen

10. Raster- und Magnetkraftmikroskop (AFM/MFM)

  • Bruker Icon Dimension
  • sample size: up to 20 x 20 cm²
  • scan area max. 100 x 100 µm²
  • AFM: ScanAsyst mode, tapping mode, contact mode
  • MFM: lifted mode
  • resolution: ~1nm

Responsible: K. Potzger

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