Elektrische Kontaktierung vertikaler Nanostrukturen


Elektrische Kontaktierung vertikaler Nanostrukturen

Wieser, M.

Diese Arbeit beschreibt die Herstellung, Kontaktierung und Charakterisierung vertikaler Nanostrukturen in Form von Pfeilern der Höhe 50 nm mit einer elliptischen Querschnittsfläche von 100 × 150 nm. Die hergestellte Gesamtstruktur besteht dabei aus mehreren Metallebenen, so dass der Pfeiler an der Unterseite von einer Grundelektrode und an der Oberseite von einer Deckelektrode kontaktiert wird. Zur Fertigung der Metallebenen wird die Elektronenstrahllithographie mit anschließendem thermischen Bedampfen und Lift-Off genutzt. Die Isolation der Grundelektrode von der obersten Metallebene erfolgt mit einem durch Rotationsbeschichtung aufgetragenen Negativ-Lack aus dem Bereich der Elektronenstrahllithographie, der bei Erwärmung in Siliziumoxid transformiert.
Nach dem Ausarbeiten und Optimieren des Herstellungsprozesses dieser Strukturen sollten erste Nanostrukturen mit integrierter Tunnelbarriere erstellt und charakterisiert werden. Aufgrund von unvorhergesehenen Verzögerungen bei der Herstellung konnten diese Strukturen allerdings nicht fertiggestellt werden, so dass für die Charakterisierungsmessungen auf eine aus einem anderen Projekt bereitgestellte Probe zurückgegriffen werden musste, die einen ähnlichen Strukturaufbau besitzt. Die während der Charakterisierung dieser Probe aufgenommenen Strom-Spannungs-Kennlinien werden mit bekannten quantenmechanischen Tunnelmodellen verglichen.

Keywords: Electrical contacting vertical nanostructures

  • Diploma thesis
    Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, 2010
    79 Seiten

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-15219
Publ.-Id: 15219