Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES
Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES
Walterfang, M.; Keune, W.; Reiche, R.; Oswald, S.; Dobler, M.; Reuther, H.
Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES
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Lecture (Conference)
65. Physikertagung, Hamburg, 26.-30.3.2001
Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-4322
Publ.-Id: 4322