Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES


Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES

Walterfang, M.; Keune, W.; Reiche, R.; Oswald, S.; Dobler, M.; Reuther, H.

Tiefenselektive Phasenanalyse der a-FeSi2-Bildung nach Beschuß von ß-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES

  • Lecture (Conference)
    65. Physikertagung, Hamburg, 26.-30.3.2001

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-4322
Publ.-Id: 4322