Sputterionenquelle
Sputterionenquelle
Friedrich, M.; Tyrroff, H.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Lebensdauer einer Sputterionenquelle zu erhöhen, den Wartungsaufwand zu senken und die Zerstäubung der Teile der Ionenquelle, welche sich in der Nähe des für die Erzeugung der negativen Ionen erforderlichen Kathodeneinsatzes befinden, weitgehend zu verhindern.
Die Erfindung geht aus von den Bauteilen Ionisierer (2), Kathode (3), Sputtereinsatz (4), Formierungselektrode (5), Abschirmkappe (6) und Kathodenisolator (7) in einem vakuumdichten Gehäuse.
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Patent
Patentanmeldung 102 41 252.9 -
Patent
DE 102 41 252 B4 -
Patent
EP 1 396 870 A3
Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-5211