Ionentechnologie
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The ion implanter group provides facilities for the ion-beam induced modification of solid samples in an energy range of 100 eV to 1 MeV. It is possible to irradiate surfaces up to a size of 200 mm in diameter. The ion implantation is used for both basic research and practical investigations in the field of the modification of surface sensitive properties as well as for doping and nanostructering in the semiconductor industry.
Group leader:
Ulrich Kentsch
High energy ion beams can be used as fine instruments for analyzing of materials and modifying their electrical, optical, magnetic and other properties in microscopic and macroscopic scales. The main activity of the devision of ion accelerators is operation and development of ion beam systems for material analysis and for material modification as well as scientific and technical support of novel experiments with ion beams (development of new ion optical elements for laser accelerator and new methods of ion implantation, experiments with ion beams for nuclear physics, etc.)
Group leader:
Dr. Shavkat Akhmadaliev
Die Ionentechnologie befasst sich mit Projekten und dem Service für grundlegende und anwendungsorientierte Untersuchungen zur Modifizierung oberflächensensitiver Eigenschaften, insbesondere Härte, Reibung, Verschleiß, Ermüdung, Haftfestigkeit, Korrosion, der Abscheidung von transparenten elektrisch leitfähigen Oxiden und Biokompatibiltät durch Ionenstrahltechniken (Ionenimplantation, ionenstrahlinduziertes Mischen und ionengestützte Schichtabscheidung). Neben den Forschungsarbeiten werden Serviceleistungen insbesondere zur Ionenimplantation für Forschung und Industrie ausgeführt.
hzdr.de
