Titel
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Hochenergie-Ionenimplantation
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Beschreibung
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Durch Hochenergie-Implantation am Ionenstrahlzentrum des HZDR lassen sich die Eigenschaften des Grundmaterials ändern. Das Verfahren wird unter anderem in der Halbleitertechnik genutzt.
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Copyright
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HZDR/Matthias Rietschel
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Bild-Nr.
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48618
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Datum
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22.10.2014
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