Nanoschreiben mit fokussierten Ionen

Fokussierte Ionenstrahlsysteme (FIB) sind ein modernes Werkzeug für die Strukturerzeugung sowie deren Analyse im µm bis in den nm- Bereich hinein. Ein Ionenstrahl, der aus einer Flüssigmetall-Ionenquelle (Liquid Metal Ion Source - LMIS) kommt wird mittels einer Ionenpotik beschleunigt und in einen Spot von bis zu wenigen nm fokussiert und dann Computergesteuert über die Probe geführt. Eine Auflösung von kleiner 10 nm bei Stromdichten von mehr als 10 Acm-2 können erreicht werden.
Der Einsatz von FIB Systemen ist spezialisiert auf die Präparation von Proben in der Analytik der Halbleiterindustrie sowie der nm - Strukturerzeugung in der Forschung. Die pixelweise Abarbeitung des Ionenstrahlschreibens ist für eine Massenproduktion nicht geeignet aber umso mehr für die Erzeugung von Prototypen neuer Bauelemente. Besonders effektiv ist die Kopplung des FIB mit einem Rasterelektronenmikroskop zu einem Zweistrahlsystem. Die Erweiterung auf neue Ionenarten durch den Einsatz spezieller Legierungen in der Ionenquelle eröffnet ein breites Spektrum neuer Anwendungsfelder.
Ausgewählte Applikationen aus dem FZD werden demonstriert und erläutert.