Selbstorganisierte Nanostrukturierung von Oberflächen mittels Ionenstrahlen

Oberflächen und Grenzflächen spielen eine große Rolle in allen technologischen Bereichen. Kaum eine Anwendung kommt ohne Materialien aus, die aus Mehrfachschichten aufgebaut sind oder funktionale Oberflächen aufweisen. Die Herstellung und Erforschung dieser funktionalen Oberflächen bzw. Schichten mit Strukturen im Submikrometerbereich wurde deshalb in den letz-ten Jahren verstärkt vorangetrieben, da eine steigenden Nachfrage in der mikro- und optoe-lektronischen Industrie nach derartigen Strukturen zu erwarten ist. Zwei komplementäre Ansätze existieren zur Erzeugung von Nanostrukturen: Der Top-down- und der Bottom-up-Ansatz.
Der Top-down-Ansatz umfasst konventionelle Techniken wie optische oder Elektronen¬stahllithographie kombiniert mit Übertragung der geschriebenen Strukturen, während der Bot-tom-up-Ansatz Selbstorganisationsphänomene an Oberflächen oder beim Wachstum dünner Schichten ausnutzt. Die Ionenerosion von Festkörperoberflächen mit niederenergetischen Ionen ist eine vielversprechende Bottom-up-Methode zur Herstellung großflächiger Felder von Na-nostrukturen [1]. Diese Methode und Anwendungen, die darauf basieren, werden im Folgenden vorgestellt.