Ionenimplantation und Unterstützung von PVD Prozessen mit energetischen Ionen als innovativer Technologiefortschritt


Ionenimplantation und Unterstützung von PVD Prozessen mit energetischen Ionen als innovativer Technologiefortschritt

Kolitsch, A.

Die simultane Kombination verschiedener Ionenenergien mittels Plasma Immersions Ionenimplantation und reaktivem Magnetronsputtern zur Herstellung extrem glatter, superharter und haftfester tribologischer Schichten für Hochtechnologieanwendungen wird beschrieben

Keywords: PBII; PIII; TiN; cBN; PVD; super hard coatings

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Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-15639