Abscheidung von Si/SiO₂-Cluster-Schichten durch reaktives Magnetron-Sputtern

Abscheidung von Si/SiO₂-Cluster-Schichten durch reaktives Magnetron-Sputtern

Seifarth, H.; Grötzschel, R.; Markwitz, A.; Matz, W.; Nitsche, P.; Rebohle, L.

• Lecture (Conference)
  8. Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie, Dresden, Sept. 14 - 17, 1997

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-2467