Vorrichtung zum Abbremsen von Ionen an einer II-Anlage zur Niederenergie-Implantation

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung vorzuschlagen, mit der ein Ionenstrahl mittlerer Energie für eine Niederenergie-Ionenimplantation einsetzbar ist. Dabei soll der Ionenstrahl so abgebremst werden, daß er mit Niederenergie auf das Target trifft und dort über die Targetfläche eine weitgehend konstante Ionendosis einbringt.