Verfahren zur Herstellung von Monolagen aus Silizium-Nanoclustern in Siliziumdioxid


Verfahren zur Herstellung von Monolagen aus Silizium-Nanoclustern in Siliziumdioxid

Schmidt, B.; Heinig, K.-H.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, das die Erzeugung von Nanoclustern zur Ladungsträgerspeicherung im Siliziumdioxid in konkretem Abstand von der Siliziumdioxid/Silizium-Grenzfläche mit idealerweise unimodaler Größenvertei-lung, und in einer Monolage angeordnet, erlaubt, ohne daß von außen zusätzliche Stoffe in die Siliziumdioxid-Schicht eingebracht werden müssen.

  • Patent
    EPA 00114817.0
  • Patent
    DE 199 33 632 A1
  • Patent
    EP 1 070 768 A1

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-2979