Erzeugung von Nanostrukturen durch Ionenbestrahlung

Es wird ein Überblich über die Möglichkeiten der Anwendung der Ionenstrahltechnik zur Erzeugung von Nanostrukturen durch Ionenimplantation und anschließender termischer Behandlung gegeben. Nanostrukturen, wie Nanocluster, Nanodrähte, Ketten von Nanoclustern usw. bilden sich dabei durch die Phasenseparation in übersättigten Festkörperlösungen und Selbstorganisation. Desweiteren werden die Selbstorganisation von 2D Anordnungen von Nanoclustern durch Ionenbestrahlung von Grenzflächen (z. B. SiO2/Si) sowie die Modifizierung von Nanostrukturen unter Ionenbestrahlung (Inverses Ostwald-Reifen) diskutiert.
Zum Schluß wird beispielhaft gezeigt, welche Möglichkeiten sich durch den Einsatz eines feinfokussierten Ga-Ionenstrahls zur Bestrahlung von Silizium ergeben, um 3D-Strukturelemente im nm-Bereich herzustellen.