In situ Verfahren zur Filmoptimierung bei der ITO-Abscheidung

In situ Verfahren zur Filmoptimierung bei der ITO-Abscheidung

Rogozin, A.; Vinnichenko, M.; Kolitsch, A.

Es wird der Messaufwand für die Bestimmung der elektrischen Parameter bei der ITO-Abscheidung gesenkt.

  • Patent
    Patentanmeldung 103 12 593.0
  • Patent
    DE 103 12 593 A1

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-5708