Modifikation der magnetischen Dämpfung in Permalloy-Schichten durch Cr-Implantation

Das magnetische Dämpfungsverhalten, die Curie-Temperatur und die uniaxiale magnetische Anisotropie von 20 nm dicken Permalloy-Schichten wurde mittels Cr-Implantation modifiziert. Die Implantation wurde bei 30 keV Beschleunigungsspannung im Dosisbereich zwischen 2×10^15 und 2 × 10^16 Ionen/cm2 durchgeführt. Daraus resultiert ein Implantationsprofil mit einer mittleren Konzentration an Cr innerhalb der Permalloy-Schicht von 1 bis 10 %. Bei einer mittleren Konzentration von ca. 7% wird die Curie- Temperatur der Permalloy-Schicht auf Raumtemperatur abgesenkt. Damit einher geht eine leichte Verringerung der uniaxialen magnetischen Anisotropie. PIMM-Messungen (”pulsed inductive microwave magnetometry”) zeigen jedoch eine starke Vergrösserung des magnetischen Dämpfungsverhaltens durch die Cr-Implantation. Die möglichen Ursachen dieser Erhöhung werden diskutiert.