Deposition by ion beam sputtering of CNx thin films: the influence of the composition of the sputering ion beam and temperature

Abrasonis, G.; Gago, R.; Vinnichenko, M.; Kreissig, U.; Mücklich, A.; Kolitsch, A.; Möller, W.

Abtrakt wird nachgereicht

Keywords: ion beam sputtering; CNx

Lecture (Conference)
Workshop "Oberflächentechnologie mit Plasma- und IOnenstrahlprozessen", 16.-18.03.2005, Mühlleithen, Deutschland

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-8263