Ionenstrahlinduzierte Wachstumsprozesse amorpher Schichten in Silicium

Ionenstrahlinduzierte Wachstumsprozesse amorpher Schichten in Silicium

Henkel, T.

• Forschungszentrum Rossendorf; FZR-175 (Dissertation TU Dresden); März 1997
  ISSN: 1436-3976

Downloads

• FZR- 175, 6 MB PDF 5,9 MB

Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-843