Kontakt

Dr. Gregor Hlawacek

Lei­ter Ionen­induzierte Nano­struk­turen
Ionen Mikroskopie
g.hlawacekAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 3409
+49 351 260 2411

Instrumentenliste FWIZ-N

Liste unserer Anlagen für Materialmodifikationen, Bildgebung, analytische Methoden und Präparation.

Materialmodifikation

Instrument

Funktion

Ansprechpartner

 

OrsayFIB

OrsayFIB - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

OrsayFIB - Foto: Nico Klingner

HV-Anlage für fokussierte Ionenstrahlen:

  • LMAIS Ionenquelle: < 10 A/cm²
  • Kinetische Energie: < 30 keV
  • Verfügbare Ionenarten: Au, Si, Ge, Ga, Co, Nd, Cr, Er, Ni, …
  • Lokale Implantation
  • Herstellung von Nanostrukturen mittels fokussiertem Ionenstrahl
  • Laterale Auflösung für Ga-Ionen: 10 nm
  • Strukturgrößen < 50 µm
Nico Klingner
Lothar Bischoff
 

CANION FIB

CANION FIB - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

CANION FIB - Foto: Nico Klingner

HV-Anlage für fokussierte Ionenstrahlen:

  • LMAIS Ionenquelle (bis 10 A/cm²)
  • Kinetische Energie bis 30 keV
  • Verfügbare Ionenarten: Au, Si, Ge, Ga, Co, Nd, Cr, Er, Ni, …
  • Herstellung von Nanostrukturen mittels fokussiertem Ionenstrahl
  • Laterale Auflösung für Ga-Ionen: 15 nm
  • Laserstage zur Positionierung
Lothar Bischoff
Nico Klingner
 

Orion NanoFab

Orion NanoFab - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Hlawacek, Gregor

Orion NanoFab

Foto: Gregor Hlawacek

Helium-Ionen-Mikroskop:

  • Rückstreudetektor für TOF-SIMS
  • Laterale Auflösung: 0.5 nm (für He-Ionen), 1.8 nm (für Ne-Ionen)
  • Rastertransmissions-Ionenmikroskopie mit positionssensitivem Detektor
  • Bildgebung mit Sekundärelektronen
Gregor Hlawacek

NVision 40

NVision 40 - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Bischoff, Lothar

NVision 40 - Foto: Lothar Bischoff

HV-Anlage für fokussierte Ionen- und Elektronenstrahlen:

  • Herstellung von Nanostrukturen mittels fokussiertem Ga-Ionenstrahl
  • Laterale Auflösung FIB: 7 nm
  • Verfahrweg der Stage: 100 mm
  • C- und Pt-Deposition
Lothar Bischoff
 

Orion Plus

Orion Plus - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Hlawacek, Gregor

Orion Plus - Foto: Gregor Hlawacek

Helium-Ionen-Mikroskop:

  • Herstellung von Nanostrukturen mittels fokussiertem He-Ionenstrahl
  • Laterale Auflösung: He 0.5 nm, Ne 1.6 nm
  • Strukturgrößen von nm bis µm
Gregor Hlawacek
 

HCI

HCI - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Creutzburg, Sascha

HCI - Foto: Sascha Creutzburg

UHV Experimentierkammer für hochgeladene Ionen:

  • Verfügbare Ionensorten: Ne, Ar, Kr
  • Kinetische Energie: 0.5q bis 4.5q keV
  • Implantationen von Ne, Ar, Kr
René Heller
Sascha Creutzburg
 

LEI

LEI - FWIZ-N instruments ©Copyright: Singh, Parminder

LEI

Foto: Parminder Singh

HV-Anlage für niederenergetische Ionenbestrahlung:

  • Ionenquelle vom Kaufman-Typ
  • Edelgas-Ionen mit 200 bis 1200 eV
  • Polare Einfallswinkel 0° bis 90°
  • Probenheizung bis 600°C
  • 3 Verdampferquellen für Metalldeposition
  • Ioneninduzierte Nanostrukturierung von Oberflächen
  • Deposition von metallischen Dünnfilmen
Denise Erb

Bildgebung

Instrument

Funktion

Ansprechpartner

 

Olympus Ultra Objective

Olympus Ultra Objective - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

Olympus Ultra Objective

Foto: Nico Klingner

Rasterkraftmikroskop:

  • Contact- oder Tapping-Modus AFM
  • Spreading resistance Messung
  • max. Messbereich: 20 µm x 20 µm
  • optische Mikroskopie
Lothar Bischoff
Gregor Hlawacek
Nico Klingner
 

Bruker Multimode 8 AFM

Bruker Multimode 8 AFM - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Singh, Parminder

Bruker Multimode 8 AFM 

Foto: Parminder Singh

Rasterkraftmikroskop:

  • Contact- oder Tapping-Modus AFM
  • Spreading resistance Messung (in Planung)
  • 3D-Abbildung der Oberflächentopographie mit 7 nm lateraler Auflösung
  • max. Messbereich: 15 µm x 15 µm
  • optische Mikroskopie
Denise Erb
 

Omicron UHV AFM / STM

Omicron UHV AFM / STM - FWIZ-N instruments ©Copyright: Singh, Parminder

Omicron UHV AFM / STM

Foto: Parminder Singh

UHV Rasterkraft- / Rastertunnelmikroskop:

  • Contact- oder Non-Contact-Modus AFM
  • STM
  • 3D-Abbildung der Oberflächentopographie mit < 1 nm lateraler Auflösung
  • max. Messbereich: 5 µm x 5 µm
  • Probenheizung bis 600°C
Stefan Facsko
 

Orion NanoFab

Orion NanoFab - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Hlawacek, Gregor

Orion NanoFab

Foto: Gregor Hlawacek

Helium-Ionen-Mikroskop:

  • Rückstreudetektor für TOF-SIMS
  • Laterale Auflösung: 0.5 nm (für He-Ionen), 1.8 nm (für Ne-Ionen)
  • Rastertransmissions-Ionenmikroskopie mit positionssensitivem Detektor
  • Bildgebung mit Sekundärelektronen
Gregor Hlawacek

Orion Plus

Orion Plus - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Hlawacek, Gregor

Orion Plus - Foto: Gregor Hlawacek

Helium-Ionen-Mikroskop:

  • Rastertransmissions-Ionenmikroskopie mit positionssensitivem Detektor
  • Bildgebung mit Sekundärelektronen
  • Rückstreu-Detektor
  • Untersuchung nicht-leitender Proben mittels Ladungskompensation
Gregor Hlawacek
 

NVision 40

NVision 40 - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Bischoff, Lothar

NVision 40 - Foto: Lothar Bischoff

HV-Anlage für fokussierte Ionen- und Elektronenstrahlen:

  • Laterale Auflösung SEM: 1.5 nm

  • Verfahrweg der Stage: 100 mm

Lothar Bischoff
 

NanoSAM

NanoSAM - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Erb, Denise

NanoSAM - Foto: Denise Erb

Oberflächenanalytik im UHV:

  • Rasterelektronenmikroskopie (REM)
  • Raster-Auger-Elektronenmikroskopie (SAM)
Denise Erb

Analytik

Instrument

Funktion

Ansprechpartner

 

TestFIB

TestFIB - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

TestFIB - Foto: Nico Klingner

UHV Anlage zur Charakterisierung von LMAIS (Liquid Metal Alloy Ion Sources):

  • Massenspektrometrie
  • Messung der Energieverteilung
  • Kinetische Energie der Ionen bis 10 keV
Lothar Bischoff
Nico Klingner
 

NVision 40

NVision 40 - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Bischoff, Lothar

NVision 40 - Foto: Lothar Bischoff

HV-Anlage für fokussierte Ionen- und Elektronenstrahlen:

  • Energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDX)
  • Elektronenrückstreubeugung (EBSD

Lothar Bischoff
 

Orion NanoFab

Orion NanoFab - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Hlawacek, Gregor

Orion NanoFab

Foto: Gregor Hlawacek

Helium-Ionen-Mikroskop:

  • Rückstreudetektor für TOF-SIMS
  • Laterale Auflösung: 0.5 nm (für He-Ionen), 1.8 nm (für Ne-Ionen)
  • Rastertransmissions-Ionenmikroskopie mit positionssensitivem Detektor
  • Bildgebung mit Sekundärelektronen
Gregor Hlawacek
 

HCI

HCI - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Creutzburg, Sascha

HCI - Foto: Sascha Creutzburg

UHV Experimentierkammer für hochgeladene Ionen:

  • Verfügbare Ionensorten: Ne, Ar, Kr
  • Kinetische Energie: 0.5q bis 4.5q keV
  • Ladungszustände bis q = 40 für Ar
  • Probentemperatur -200°C bis +1000°C
  • Ionenspektroskopie
René Heller
Sascha Creutzburg
 

NanoSAM

NanoSAM - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Erb, Denise

NanoSAM - Foto: Denise Erb

Oberflächenanalytik im UHV:

Denise Erb

Präparation

Instrument

Funktion

Ansprechpartner

 

Spot Welder

Spot welder - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Bischoff, Lothar

Spot welder Foto: Lothar Bischoff

Punktschweißgerät:

  • Bonden von Drähten und Blechen
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
 

Etching Setup

Etching setup - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

Etching setup - Foto: Nico Klingner

Ätzeinrichtung:

  • Elektrochemisches Ätzen von Wolframspitzen für Ionenquellen
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
Nico Klingner
 

Leica EM TXP

Leica EM TXP - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

Leica EM TXP

Foto: Nico Klingner

Gerät zur mechanischen Präparation:

  • Fräsen, Sägen, Mahlen und Polieren
  • u.a. Präparation für Lichtmikroskopie und Elektronenmikroskopie
Nico Klingner
 

ArBlade 5000 CTC

ArBlade - FWIZ-N Instrument ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

ArBlade - FWIZ-N Instrument

Foto: Nico Klingner

HV-Gerät zum Fräsen mit Ionenstrahlen:

  • unfokussierter Ar-Strahl mit 0.1 bis 8 keV kinetischer Energie
  • Ionenfräsen zur Glättung oder zur Herstellung von Dünnschnitten
  • Abtragraten bis 1 mm/Stunde
Nico Klingner
 

LMAIS Präparation

LMAIS Preparation - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

LMAIS Preparation

Foto: Nico Klingner

HV-Einrichtung zur Herstellung von LMAIS (Liquid Metal Alloy Ion Sources):

  • Reinigung und Aufschmelzen von Legierungen für LMAIS
  • Benetzung, Füllung und Funktionstest
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
Nico Klingner

Präparation

Instrument

Funktion

Ansprechpartner

 

Spot Welder

Spot welder - FWIZ-N instruments ©Copyright: Dr. Bischoff, Lothar

Spot welder Foto: Lothar Bischoff

Punktschweißgerät:

  • Bonden von Drähten und Blechen
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
 

Etching Setup

Etching setup - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

Etching setup - Foto: Nico Klingner

Ätzeinrichtung:

  • Elektrochemisches Ätzen von Wolframspitzen für Ionenquellen
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
Nico Klingner
 

Leica EM TXP

Leica EM TXP - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

Leica EM TXP

Foto: Nico Klingner

Gerät zur mechanischen Präparation:

  • Fräsen, Sägen, Mahlen und Polieren
  • u.a. Präparation für Lichtmikroskopie und Elektronenmikroskopie
Nico Klingner
 

ArBlade 5000 CTC

ArBlade - FWIZ-N Instrument ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

ArBlade - FWIZ-N Instrument

Foto: Nico Klingner

HV-Gerät zum Fräsen mit Ionenstrahlen:

  • unfokussierter Ar-Strahl mit 0.1 bis 8 keV kinetischer Energie
  • Ionenfräsen zur Glättung oder zur Herstellung von Dünnschnitten
  • Abtragraten bis 1 mm/Stunde
Nico Klingner
 

LMAIS Präparation

LMAIS Preparation - FWIZ-N Instruments ©Copyright: Dr. Klingner, Nico

LMAIS Preparation

Foto: Nico Klingner

HV-Einrichtung zur Herstellung von LMAIS (Liquid Metal Alloy Ion Sources):

  • Reinigung und Aufschmelzen von Legierungen für LMAIS
  • Benetzung, Füllung und Funktionstest
Lothar Bischoff
Wolfgang Pilz
Nico Klingner

Kontakt

Dr. Gregor Hlawacek

Lei­ter Ionen­induzierte Nano­struk­turen
Ionen Mikroskopie
g.hlawacekAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 3409
+49 351 260 2411