Arbeitsfelder

Mit dem Transmissionselektronenmikroskop werden primär die Effekte der Ionenimplantation sowie der Schichtabscheidung auf mikro- und nanostruktureller Ebene untersucht. Wegen des vorwiegenden Interesses am Verlauf von Tiefenprofilen werden überwiegend Querschnittsproben analysiert, die in einem abteilungseigenen Präparationslabor hergestellt werden. Neben der klassischen Vorgehensweise (Sägen, Schleifen, Polieren, Dimpeln, Ionendünnen) steht ein fokussierter Ionenstrahl (FIB, Helios 5 CX) für die Zielpräparation zur Verfügung. Das TEM ist offen zur Nutzung für alle relevanten Aufgaben innerhalb des Forschungsstandorts sowie für Partner aus dem akademischen und industriellen Umfeld. Aktuell werden u. a. die folgenden Themen bearbeitet:

• Nachweis der Formgebung von Nanopartikeln durch Ionenbeschuss
• Ionenstrahlinduzierte Oberflächenmodifikation
• Analyse von Halbleiterstrukturen
• Charakterisierung fortschrittlicher Absorbermaterialien für die Photovoltaik
• Analyse von Materialien für die Batterietechnik
• Aufnahme und Bindung von Uran in einzelligen Lebewesen (Kooperation mit dem Institut für Ressourcenökologie)