Ioneninduzierte Nanostrukturen

Beschuss eines Festkörpers mit energetischen Ionen führt zu Materialabtrag von der Oberfläche. Dieser Prozess heißt „Ionenerosion“ oder „Ionsputtern“ und wird häufig in der Industrie als einfache Technik benutzt um Oberflächen aufzurauen, zu glätten oder zu säubern. Der ständige Energieeintrag durch den Ionenstrahl treibt außerdem die Oberfläche aus dem thermodynamischen Gleichgewicht wodurch unterschiedliche Prozesse auf und unterhalb der Oberfläche induziert werden.

Ioneninduzierte Oberflächenprozesse 

Wir untersuchen diese Prozesse während des niederenergetischen Ionenbeschusses, insbesondere im Hinblick auf die kontrollierte Modifikation und Nanostrukturierung von Oberflächen.

Unsere wissenschaftlichen Themen umfassen:

Siliziumoberfläche nach 500 eV Ar+ Sputtern unter 67° 3D AFM Bild von CaF2 Pits HIM Trimer

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Aktuelle Veröffentlichungen:

2020

General Colloidal Synthesis of Transition-Metal Disulfide Nanomaterials as Electrocatalysts for Hydrogen Evolution Reaction

C. Meerbach, B. Klemmed, D. Spittel, C. Bauer, Y. J. Park, R. Hübner, H. Y. Jeong, D. Erb, H. S. Shin, V. Lesnyak, A. Eychmüller

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Conductive ITO interfaces for optoelectronic applications based on highly ordered inverse opal thin films

L. Galle, S. Ehrling, S. Lochmann, S. Kaskel, L. BischoffORC, J. Grothe

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Sputtering of nanostructured tungsten and comparison to modelling with TRI3DYN

R. Stadlmayr, P. S. Szabo, D. Mayer, C. Cupak, T. Dittmar, L. BischoffORC, S. Möller, M. Rasinski, R. A. WilhelmORC, W. Möller, F. Aumayr

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  • Zweitveröffentlichung erwartet ab 07.02.2021

Morphology modification of Si nanopillars under ion irradiation at elevated temperatures: plastic deformation and controlled thinning to 10 nm

X. XuORC, K.-H. Heinig, W. Möller, H.-J. Engelmann, N. KlingnerORC, A. Gharbi, R. Tiron, J. Borany, G. HlawacekORC

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2019

Strain Anisotropy and Magnetic Domains in Embedded Nanomagnets

M. Nord, A. Semisalova, A. Kákay, G. HlawacekORC, I. Maclaren, V. Liersch, O. Volkov, D. Makarov, G. W. Paterson, K. Potzger, J. Lindner, J. FaßbenderORC, D. Mcgrouther, R. Bali

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Stationary beam full-field transmission helium ion microscopy using sub-50 keV He+: Projected images and intensity patterns

M. Mousley, S. Eswara, O. de Castro, O. Bouton, N. KlingnerORC, C. T. Koch, G. HlawacekORC, T. Wirtz

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Lithium Ion Beams from Liquid Metal Alloy Ion Sources

W. Pilz, P. Mazarov, N. Klingner, S. Bauerdick, L. Bischoff

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Time-of-flight secondary ion mass spectrometry in the helium ion microscope

N. KlingnerORC, R. Heller, G. HlawacekORC, S. FacskoORC, J. von Borany

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Kontakt

Dr. Gregor Hlawacek

Ionen Mikroskopie
Ionen­induzierte Nano­struk­turen
g.hlawacekAthzdr.de
Tel.: +49 351 260 3409

Links

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